鈣鈦礦：第三代光伏技術(shù)，產(chǎn)業(yè)化雛形已現(xiàn)

鈣鈦礦電池降本增效前景無(wú)限，單結(jié)覆蓋BIPV等特殊場(chǎng)景，疊層賦能晶硅進(jìn)一步提效。鈣鈦礦電池具有轉(zhuǎn)換效率上限高、吸光能力強(qiáng)、帶隙可調(diào)節(jié)、材料成本低、生產(chǎn)流程短等優(yōu)勢(shì)。我們認(rèn)為，短期單結(jié)鈣鈦礦有望率先應(yīng)用于BIPV和CIPV等特殊場(chǎng)景，中長(zhǎng)期鈣鈦礦與晶硅電池疊層有望賦能光伏行業(yè)進(jìn)一步提效。我們預(yù)計(jì)，2030年鈣鈦礦（單結(jié)&疊層）產(chǎn)能將達(dá)到443.33GW。  關(guān)鍵假設(shè)：

1）我們預(yù)計(jì)2023-2025年全球新增光伏裝機(jī)量分別為350/450/550GW，假設(shè)2025-2030年全球新增光伏裝機(jī)量復(fù)合增速為12.5%，假設(shè)容配比為1.25； 

2）參考過(guò)去產(chǎn)能利用率，假設(shè)2023-2025年組件產(chǎn)能利用率為60%，2026-2030年隨著光伏裝機(jī)增速放緩，競(jìng)爭(zhēng)格局趨于穩(wěn)定，產(chǎn)能利用率逐步提升至70%； 

3）假設(shè)2022-2030年鈣鈦礦滲透率逐步由0.12%提升至25%；

工藝端技術(shù)路線(xiàn)尚未統(tǒng)一，鍍膜工藝為核心。鈣鈦礦生產(chǎn)流程可簡(jiǎn)化為在TCO玻璃襯底（單結(jié)）或硅基（疊層）襯底上先后沉積空穴傳輸層、鈣鈦礦層、電子傳輸層、導(dǎo)電層和背電極，其中穿插激光刻蝕工藝起到切割、開(kāi)槽和清邊作用，最后進(jìn)行封裝測(cè)試。

1）鍍膜工藝：鈣鈦礦電池鍍膜的常見(jiàn)工藝包括以刮涂、狹縫涂布為代表的濕法鍍膜工藝和以PVD、蒸鍍、RPD、ALD等為代表的干法鍍膜工藝。從實(shí)際產(chǎn)業(yè)化情況看，目前鈣鈦礦層通常采用狹縫涂布或真空蒸鍍的方式沉積，而空穴傳輸層、電子傳輸層可分別使用PVD和RPD/ALD工藝沉積。鈣鈦礦各膜層的沉積方式與鈣鈦礦材料體系選擇息息相關(guān)，未來(lái)隨著鈣鈦礦技術(shù)和材料體系變化，各類(lèi)鍍膜工藝均有應(yīng)用空間。

2）激光刻蝕：鈣鈦礦電池涉及四道激光刻蝕工序，其中P1、P2、P3激光劃線(xiàn)目的是將部分膜層打開(kāi)，把大面積鈣鈦礦電池分割為多個(gè)子電池，并使多個(gè)子電池形成串聯(lián)結(jié)構(gòu)，而P4激光工序主要起到清邊作用，為后道封裝前提。 

上下游產(chǎn)研聯(lián)動(dòng)，產(chǎn)業(yè)化雛形已現(xiàn)。隨著國(guó)內(nèi)鈣鈦礦電池技術(shù)突飛猛進(jìn)，技術(shù)產(chǎn)業(yè)化有提速趨勢(shì)，以協(xié)鑫光電、纖納光電、極電光能等一大批優(yōu)秀企業(yè)先后落地鈣鈦礦百兆瓦中試線(xiàn)，并取得優(yōu)秀的效率表現(xiàn)，目前頭部各家GW級(jí)產(chǎn)線(xiàn)均已規(guī)劃建設(shè)，預(yù)計(jì)2024年有望落地。同時(shí)，傳統(tǒng)晶硅企業(yè)依托在晶硅電池上的技術(shù)積累，主攻疊層方向，但多數(shù)仍處在實(shí)驗(yàn)室階段。

設(shè)備端，業(yè)內(nèi)企業(yè)前瞻性布局鈣鈦礦鍍膜、激光等設(shè)備，產(chǎn)品快速迭代升級(jí)，京山輕機(jī)、捷佳偉創(chuàng)、德龍激光等領(lǐng)先企業(yè)均已取得訂單并實(shí)現(xiàn)出貨。材料端，TCO玻璃作為單結(jié)鈣鈦礦電池襯底，成本占比居第一位，金晶科技在2022年5月已經(jīng)實(shí)現(xiàn)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的TCO玻璃產(chǎn)線(xiàn)投產(chǎn)，耀皮玻璃通過(guò)收購(gòu)也具備TCO玻璃供應(yīng)能力；鈣鈦礦各膜層所需金屬靶材、TCO靶材也有優(yōu)秀企業(yè)可供應(yīng)。

文章來(lái)源：東方財(cái)富證券

免責(zé)聲明：本文原載于互聯(lián)網(wǎng)，版權(quán)歸原作者所有。如涉及作品版權(quán)問(wèn)題，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們將在第一時(shí)間協(xié)商版權(quán)問(wèn)題或刪除內(nèi)容！